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Particle過濃將會影響晶圓的品質？

監診實績｜Particle過濃將會影響晶圓的品質？

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在半導體製程中，這些微粒子可能引起製程中的不穩定性，微粒子的濃度過高，將導致不均勻的材料去除或沉積？

微粒子Particle過濃造成影響

微粒子形成原因：
微在半導體製程中，微粒子是指極小的固體或液體顆粒，其直徑通常在微米或納米尺度。這些微粒子可能引起製程中的不穩定性，例如在蝕刻、沉積或光罩製程中，微粒子的濃度過高，將導致不均勻的材料去除或沉積，進而影響元件的製造品質瑕疵或不良，增加產線製造不良品的機率。

微粒子形成原因：
微粒子的形成原因多樣，可能來自內部或外部環境。機台內部零件的磨損可能產生微粒子。這包括機台內的輸送系統、軸承、密封件等。長時間運轉和使用的機台，由於零部件的磨損，可能釋放微小的顆粒。在製程中，化學反應可能導致材料的分解或產生副產物，這些副產物可能以微粒子的形式存在。例如，在某些化學製程中，氣體或液體的反應可能產生微細的固體產物。

外部環境的因素，如空氣中的塵埃、露點變化等，都可能影響機台內的微粒子水平，這就是為什麼無塵室環境的控制對於半導體製程至關重要的原因之一。另外，操作人員的衣物、鞋子、工具等都可能帶進微粒子，尤其在無塵室環境中，控制人員的衣物和行為是至關重要的。

其他如機台的設計可能也是微粒子產生的原因之一。機台可能在運轉過程中產生摩擦，這可能釋放微粒子。製程使用的材料品質也可能影響微粒子的生成，低品質的原材料可能含有雜質或不純淨，這些可能在製程中釋放微粒子。

如何減少微粒子的形成：
為了減少機台內微粒子的形成，使用者需定期對機台進行清潔和保養、使用高品質的材料，以及實施嚴格的無塵室標準和操作規程。定期測量無塵室中的微粒子濃度。這有助於早期檢測濃度升高的情況，並能夠及時採取措施。並在適當的區域使用防護措施，例如機台罩、防塵罩等，以防止微粒子的進入或擴散。

監測說明

IIoT無限。工業物聯網
利用工業物聯網無線式微米粒子監測系統，可監測範圍為 0.3 微米(µm)～10微米(µm)，由自體收發無線訊號，1GHz 以下頻段不干涉廠內無線訊號、具有低頻穿透能力優之特性、不需廣佈訊號線，大幅節省配線、監測成本。主系統最多可擴充300個監測點，符合成本效益並且節省人員巡檢人力，實時監測粒子濃度，一有過標，即時警示。