ウェーハ研磨の平坦度が不均一ですか?
実績 |ウェーハ研磨の平坦度が不均一ですか?研磨中に機械設備の異常でウェーハの平坦度が悪くなり、表面粗さやエッジチッピング、角の異常が発生している場合はありませんか?
研磨/ポリッシング加工
ウェーハ研磨の前に、研磨するウェーハの裏面に特殊フィルムを貼り、表面のICが損傷しないように保護します。その後、研磨工程が開始されます。ウェーハ研磨(バックグラインディング)は、ウェーハを背面から研磨し、厚さを許容範囲に保つことを目的としています。また、ポリッシングは前工程で残った微細な欠陥を改善し、ウェーハの平坦度を向上させ、微粒子の付着を防ぐことが目的です。
研磨工程では、ウェーハの厚みが最終的なICチップの品質に大きな影響を与えます。例えば、ウェーハが厚すぎると熱放散が悪く、薄すぎると破損のリスクが高くなります。最近では12インチウェーハの需要が高まり、研磨工程の難易度も増しています。
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どのように解決するか
研磨/ポリッシング機の品質監視。研磨およびポリッシングの工程は、ウェーハの最終的な厚さと表面粗さを決定します。工程中に振動信号が過剰であれば、ウェーハの平坦度や表面粗さ、エッジチッピング、角の異常などを引き起こします。機械の監視により、機械的な問題を早期に検知できます。製品に異常が見つかった場合は、測定データを遡って異常の原因を明確にすることができます。
測定状況
下の図からわかるように、研磨工程中、垂直ウェーハ表面の動的振動の変化を測定することで、ウェーハの力の変化が機器の振動変化の影響を受けているかどうかを確認できます。ターンテーブルの主軸に異常があると、振動値が大きく、空転によって共振現象が発生し、ウェーハの破損率が増加する恐れがあります。
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測定結果
ウェーハ研磨/ポリッシングの目的は、前工程で残った微細な欠陥を改善し、ウェーハの平坦度を向上させ、微粒子の付着を防ぐことです。ウェーハは、スライシング、研磨、機械的ポリッシング、化学的ポリッシングなどの工程を経ます。
この機器の精度は非常に高い要求があります。研磨中、ウェーハが破裂(破片)したり、傷ついたりすることがあります。そのため、ユーザーは機器の異常による損失を防ぐために、機器運転中のプロセスの完全な監視計画が必要です。