OLVMS®-DP

消弭半导体氧化製程风险

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真空泵浦监测系统

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解决方案

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真空泵浦

避免因为泵浦卡粉造成机械损坏

线上监测系统|真空泵浦监测系统

为什麽需要?
半导体厂长期痛点

半导体製造蕴含蚀刻、黄光、扩散、薄膜等必经程序,如何确保其中各项製程设备的健康状态,无疑至关重大。以扩散製程中的「热氧化」而论,靠的即是高温氧化炉管之正常运作,万一真空度不足可能造成炉内整批晶圆报废,衍生巨大损失;但意欲避免炉管失效,存在一些挑战。炉管以真空泵浦 (Dry Pump) 为驱动元件,内含转子电机、鲁氏泵浦。真空泵浦原厂提供的监控系统,仅涵盖压力、流量、温度及电流,未含振动,导致用户无法掌握足够资讯,甚难提前探知失效预兆。使用者对真空泵浦的主要期望有二,一是掌握故障徵兆,避免无预警停机;另一是找到可信赖依据,以延长良品的工作时数 (Life time),减轻维护成本,即使送交保养,亦需确保回厂设备达到保养需求规格。

以往使用者惯用电流来观察机械健康度,但电流是落后指标,等到产生电流异常飙高警讯,代表随时可能停机,状况岌岌可危,不符合预知保养原则。此外谈及 Lifetime 的订定,係由人为经验搭配数据统计所形成,真空泵浦运转到达预定时数,不管状态优劣通通送交保养,导致用户可能为了保养良品而耗费无谓成本,况且针对回厂设备,通常仅以电流做为验收依据,不足以确保委外保养效益,埋下日后Lifetime内提前老化的风险。

无法掌握故障徵兆

无法掌握
故障徵兆

避免无预警之停机

避免无预警
之停机

延长良品工作时数

延长良品
工作时数

确保回厂设备品质

确保回厂
设备品质

过度依赖人为经验

过度依赖
人为经验

保养良品成本浪费

保养良品
成本浪费

问题解决
期盼精准认定 Life time,减轻维运成本

使用者常常困扰 Dry Pump 发生的问题,Dry Pump 在正常工作时数内(定期保养前),却提前老化。或是泵浦卡粉,造成机械损坏甚至卡死造成无预警停机。以及培林端油品问题,导致泵浦提前损坏,运转中良品需要拉长定期保养时间,数据化降低运转维护成本。保养后回厂设备是否真的有达到保养需求规格等等。

鉴于这些痛点,固德着手设计相关软体与演算法,涵盖ISO 10816 转子机械振动品质评估、Broad Band 数值管理、SOA 值 (Spectrum Overall Value) 管理等多重机制,并将複杂讯号转化为直觉可视的健康指标,有效补强传统监测功能之不足,甚至使用者即使欠缺FFT(快速傅立叶转换)频谱分析能量,仍能藉由这套方案看穿许多细微徵兆。使用者能迅速得知其真空泵浦落在优良、正常、警告、危险何等层级;另支援经常为人忽略的第二类变异管理,以满足短时间趋势之管理需求。

执行目标
#了解设备品质,避免无预警停机
了解 Dry pump 设备的健康状况,实施正确的预知保养,避免设备容易因为泵浦卡粉、培林端油品问题(漏油、劣化)导致机械损坏或卡死、泵浦提前损坏,造成无预警停机。

#快速找出问题症结点,排除异常
Dry pump 设备机型种类繁多,对于製程有相当大的影响,当设备问题发生时,需要能立即性找出问题症结点,快速排除异常原因,以免因为影响产线流程造成产品不良率提高及生产成本。

#降低维护的成本,确保保养效益
Dry pump 设备因种类机型不同,许多使用者会委外或回原厂进行保养,但往往无法得知回厂后的保养效益。若能了解Dry pump品质,就能避免过度保养,在正确的时间进行保养,进而降低维护成本。

#增加良品使用率,预防提前老化
Dry pump 设备对于半导体製程佔有很重要的影响,许多使用者会因为不了解设备品质,时间到了就回原厂保养,换了一堆不需要换的耗材部件,增加维护成本,切确了解设备品质才能把钱花在刀口上并且预防提前老化。

问题解决
OLVMS®-DP 带来的效益!

使用快速上手

使用快速上手

掌控设备品质

掌控设备品质

精准维修指令

精准维修指令

提升保养效益

提升保养效益

避免停机损失

避免停机损失

降低维护成本

降低维护成本

特点说明
实时监测预防停机危害

实时监测预防停机危害

工安系统 Dry pump 异常时,对于环境与人体都有立即性的危险。

而对于半导体製程中专用的真空系统 Dry pump 失去作用或异常,可导致在製造过程中的不良品增加,造成产品的汙染。OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统让使用者即时了解设备状态并可将预知保养工作数据化实施。

特点说明
即时显示判别设备状态

即时显示判别设备状态

OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统根据 ISO 振动规范标准内容,定义出设备状态,分为优良、正常、警告、危险四种等级,并以灯号显示状态等级。

使用者也可选择自行建立门槛规范,系统即时显示量测结果,不用再等待检测人员到场,可即时了解问题,并帮助使用者建立自身厂内设备健康的管理标准。

特点说明
趋势图表及智能诊断

趋势图表及智能诊断

OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统能够即时监测与数据蒐集,对于转子设备所设定的各量测点能产出所有量测历史纪录与品质状况。

维修人员可依据状况排定保养规划,选择区间功能更方便使用者查询转子设备健康趋势。导入智能化诊断功能,提供初步可能故障原因,方便使用者快速进行设备维护工作。

特点说明
降低技术门槛操作容易

降低技术门槛操作容易

适用于各式型号转子设备的OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统内建适用于各式转子设备建议量测监测点位,帮助使用者更快速设定感测器安装。

内建 ISO 规范使用者无需背表,只需选择相对应的规范即可开始量测。另外固德领先市面上所有监测软体,新增了最新的 ISO 20816 规范,让使用者管理马达转子部件系列更周全

提前探知
失效预兆

SubFab 端 dry pump 设备,深切影响着製程及产品品质。设备运转过程中,利用OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统监测帮助使用者保持产线设备一定的稳定度,能够提前探知失效预兆,避免故障及无预警停机的发生。

UI 功能画面
系统主画面

系统主画面

UI 功能画面
趋势图与告警通知设定

OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统能够即时监测与数据蒐集,对于转子设备所设定的各量测点能产出所有量测历史纪录与品质状况。提供趋势图显示,维修人员可依据状况排定保养规划及即时判断转子设备的健康状态。

趋势图与告警通知设定

UI 功能画面
规范设定

OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统针对各式转子设备皆有对应的转子ISO建议规范,无需背表,只需要将介面选择对应的设备进行量测即可得到量测结果。

三种规范同步监测:
ISO:不同马达有不同的振动量等级,为大范围标准。
Broad Band:设备振动基准值上下限 25%,超过此范围有问题。
SOA (Spectrum Over All) :振动量超过基准值2倍警告、超过6倍危险。

趋势图与告警通知设定

UI 功能画面
智能判断

OLVMS®-DP 真空泵浦监测系统导入智能化诊断功能,提供初步可能故障原因,方便使用者快速进行设备维护工作。

智能判断

应用标的
适用于各式 DRY PUMP 设备

主要应用场域为:
半导体长晶厂、半导体製造业、面板製造业、Sub-Fab真空系统、各式製造业厂务真空系统等。
适用应用设备为:
长晶炉、LPCVD 炉管、Ion implanter、CVD Producer、PVD Sputter、Dry Etch、Slit Coater..等

可预防Dry Pump在正常工作时数内 (定期保养前),提前老化;预防泵浦卡粉,造成机械损坏甚至卡死造成无预警停机;培林端油品问题 (漏油、劣化),导致泵浦提前损坏;运转中良品延长工作时数,拉长定期保养时间,有数据化的降低运转维护成本;保养后回厂设备是否有达到保养需求规格,确保委外保养效益。

Ion implanter

Ion implanter

Dry Etch

Dry Etch

Slit Coater

Slit Coater

CVD Producer

CVD Producer

LPCVD 炉管

LPCVD 炉管

长晶炉

长晶炉

架构说明
真空泵浦监测系统

第三层:系统主机 x 1 (USER端)
IIoT 中央战情管理系统
第二层:Local 主机 (TCP / IP / WIRELESS NODE)
IIoT 中央战情管理系统
第一层:振动感测器监测设备
IIoT 中央战情管理系统

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